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垂直晶体定向仪

垂直晶体定向仪

简要描述:下一代垂直Laue晶体定向系统
有三种配置可供选择——垂直、水平和颗粒图——光子科学背反射Laue系统允许实时晶体定向,精度低至0.1度。
单晶的电光特性强烈依赖于晶体取向。Laue工具从单晶中收集高分辨率的X射线衍射图案,从而能够以优异的精度选择正确的晶面。

产品型号: LAUESYS

所属分类:晶体定向仪

更新时间:2024-05-07

详细说明:

 

    从非线性光学到喷气发动机涡轮叶片和超导材料,单晶材料在新型器件中发挥着重要作用。高分辨率晶体定向系统是捕获和分析各种晶体材料的Laue衍射图案的理想工具。


    使用专用软件,可以快速准确地测量单晶的取向

    该系统在样品上提供小于0.3mm的强X射线束。单晶的电光特性强烈依赖于晶体取向。


    LAUE工具从单晶中收集高分辨率的X射线衍射图,从中可以非常准确地选择正确的晶面切割。

    主要功能

    有垂直、水平和颗粒贴图配置

    即插即用紧凑型机柜系统-无需定制工作台或额外服务

    全自动和电动XYZ平台和测角仪,可提供手动选项

    CCD背反射、高分辨率、高灵敏度x射线探测器

    专有聚焦光学器件,提供较小的准直光束尺寸

    使用机载高分辨率观察相机快速精确地对准小晶体

    用于精确和可重复样品定位的距离测量工具

    专门的Laue软件用于全面控制、数据采集、处理和分析

    高通量样品筛选选项


    垂直Laue配置

    垂直Laue系统是最灵活的配置,它使用垂直光束路径对隔离的多个晶体或多个感兴趣的区域进行高通量扫描。使用重力,样品不需要粘附在平台上,从而更容易安装和定向晶体。光束尺寸小于200µm时,可容纳亚毫米范围的样品和涡轮合金等较大部件。


    水平Laue配置

    Laue系统也可采用传统的水平几何形状。水平Laue系统非常适合定向晶体进行切割或快速扫描晶体以识别反射。


    颗粒图配置

    一种垂直系统,具有特殊的相机、镜头、照明和绘图软件,用于测量每个颗粒的方向。Grain Map包括一个全电动XYZ载物台和角度计作为标准,非常适合于硅片的晶粒映射。


     

     




     



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